Dotierung

Durch zielgerichtete Zugabe kleinster Mengen von Fremdatomen werden die Eigenschaften der Halbleiter- schicht bei Transistoren gezielt verändert. Die Dotierung erfolgt über Verfahren wie die Diffusion oder Sublimation. Man unterscheidet weiterhin zwischen p- und n-Dotierungen bei Halbleitern, je nach der zu verändernden Schicht.

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